CRF真空等離子體清洗機通入不同的氣體都有什么用途:
       在使用CRF在真空等離子體清洗機改性物體之前，首先對物體和污垢進行分析和清洗，然后選擇氣體。根據等離子體的作用原理，可選氣體可分為兩類。一種是氫、氧等反應性氣體，主要用于清潔金屬表面的氧化物并恢復反應。真空等離子體清洗機主要用于清洗物體表面的有機物并發(fā)生氧化反應。另一種是真空等離子體清洗機通過氬、氦、氮等非反應性氣體。氮等離子體處理可以提高數據的硬度和耐磨性。

一，CRF真空等離子體清洗機清洗金屬外觀
       金屬表面常有油脂、油污等有機物和氧化層，濺射、油漆、粘結、粘結、焊接、銅焊和PVD，CVD涂層前，需要真空等離子體處理，以獲得完全清潔和無氧化層的外觀。在這種情況下，等離子體處理具有以下功能：
氧化物去除金屬氧化物與處理氣體發(fā)生化學反應。這種處理應該是氫或氫和氬的混合物。有時還有兩個步驟。首先，氧化第二步是用氫和氬的混合物去除氧化層。幾種氣體也可以一起處理。
二，CRF真空等離子體清洗機等離子體刻蝕
       在真空等離子體蝕刻過程中，蝕刻物通過處理氣體變成氣相。真空泵提取處理氣體和基質，外觀覆蓋新鮮處理氣體。蝕刻部分不被數據覆蓋。
       真空等離子體清洗機也用于蝕刻塑料外觀，可通過氧氣灰化填充混合物，共同分布和分析情況。真空等離子體蝕刻作為塑料印刷和粘合的預處理技術非常重要，如POM，PPS和PTFE。等離子體處理可大大增加粘結潤濕面積。